График работы:
с 09:00 до 18:00 офис
Назад

Средства для удаления и снятия лака

MicroChemicals GmbH (Merck KGaA), Германия
Kayaku Advanced Materials или Alfa Chemistry, США
DuPont, США
DuPont, США

Химические вещества для удаления фоторезистов, лаков и других покрытий после обработки, оказывающие слабое воздействие на подложки, подходящие для применения в полупроводниковой промышленности.